先進電子專用設備研究中心

先進電子專用設備研究中心

       浙江大學昆山先進電子專用設備研究中心依托浙江大學信息與電子工程學院,以“先進磁控濺射”為核心技術,研發新一代先進電子元器件的材料、工藝,以及專用裝備。中心積極響應《中國制造2025》政策,以“實現中國電子元件的綠色制造”為使命和戰略方向,以創新驅動、質量為先為準則,成功研發了一系列電子元件磁控濺射綠色金屬化工藝及大規模生産線裝備,替代了污染嚴重、能耗高、且具安全隐患的電鍍、絲印燒結、粉末噴鋁等傳統工藝,在熱敏、壓敏、鐵氧體、石英等多個電子元器件行業實現了綠色制造及産品高端化。中心孵化企業1家,與昆山企業共建研發中心1個,相關技術獲國家及部省級等獎勵13次,授權國家發明專利15項。

研發團隊:

       研究中心主任為浙江大學信息與電子工程學院王德苗教授。

       研究中心在職人員12人,其中姑蘇雙創人才1人。

團隊合影

研發方向:

電子元件綠色金屬化工藝及專用裝備;

半導體制造工藝與裝備;

薄膜太陽能電池、高效LED散熱、ITO透明導電薄膜、精細柔性電路闆技術;

       FBAR/QCM、SAW等物聯網、機器人智能傳感器技術。

研發平台:

       中心圍繞以磁控濺射為核心的新一代先進電子元器件材料、工藝,以及專用裝備的研發,建立了“ZnO壓敏陶瓷濺射金屬化中試平台”、“雙靶位柱形磁控濺射源實驗平台”、“研發用機械加工平台”,配置了先進的“亞納米級微細形狀測定儀”、“複合頻率超聲波清洗系統”,以及“高純去離子水系統”等儀器和設施,形成良好的研究、開發、測試、以及産業化中試環境,較好地為昆山及江蘇的相關電子元件制造産業提供研發、測試服務。

1ZnO壓敏陶瓷濺射金屬化中試平台

       主要服務于敏感陶瓷等電子元件制造企業,可提供新一代磁控濺射電極制備工藝的材料、膜系結構、電氣性能、可靠性、以及小批量中試服務。ZnO壓敏電阻器因具有優良的非線性特性以及卓越的耐浪湧能力而被廣泛應用于電力系統、電子線路、微電子線路的過電壓保護之中,是目前應用最成功、市場份額最大的電子陶瓷元器件之一,而昆山則是ZnO壓敏電阻器的主要産地。基于該平台上的反複試驗以及大量數據積累,中心與昆山萬豐電子、蘇州求是真空三方成功合作開發了國際首創的ZnO壓敏電阻賤金屬磁控濺射金屬化工藝及專用設備,并實現了産業化,産品已獲業内的一緻贊譽和廣泛認可,引領了産業革新。基于此,中心與萬豐電子達成長期戰略合作聯盟,共建了“浙大昆山萬豐先進電子元件研發中心”,以期共同推動我國電子元件制造業的綠色制造和産品高端化。

ZnO壓敏陶瓷濺射金屬化中試平台

2)雙靶位柱形磁控濺射源實驗平台

        主要服務于大面積磁控濺射真空鍍膜系統中的核心部件“圓柱形磁控濺射源”的研究、試驗及優化。采用大面積的磁控濺射真空鍍膜系統取代傳統落後并污染嚴重的電鍍、絲印燒結等工藝,對電子元件實現綠色電極制備,是國内外電子元件制造業的發展趨勢。圓柱形磁控濺射源則是磁控濺射真空鍍膜系統中最為核心的部件,其性能好壞直接影響到電極薄膜的性能、良率,以及制造成本。基于本平台提供的優良環境,中心研發了新型的窄等離子軌道高速率高均勻性柱型磁控濺射源,并服務于常州興勤電子、蘇州康普來等企業。其中與蘇州康普來合作研發的4G/5G無線通信基站腔體濾波器綠色制造技術已取得突破性進展,有望在近期内形成産業化并引領行業的技術革新。

雙靶位柱形磁控濺射源實驗平台

3)亞納米級微細形狀測定儀

       主要服務于電子薄膜材料與器件的工藝及可靠性研究,可用于薄膜材料的厚度測定、材料基底以及薄膜表面的粗糙度測定、薄膜的應力測定等。儀器采用半徑2 μm的鑽石觸針,測定力 1-50 mg,線性精度±0.25%,厚度方向分解能力 ≤ 0.1 nm,再現性1σ≤0.2 nm。

亞納米級微細形狀測定儀

4)複合頻率超聲波清洗系統

       主要用于電子元件鍍膜前的表面清洗,具有28、40、68 kHz三種不同頻率的超聲波發生器,可進行鼓泡、翻滾、加熱等全自動操作。“研發用機械加工平台”主要用于小型真空零部件的加工和試驗,可進行車、銑加工。“高純去離子水系統”主要用于高純去離子水的産生,配套于電子元件鍍膜前的清洗。

複合頻率超聲波清洗系統